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To weiter erklären die Ätzen Prozess, Leiterplattenhersteller sind mehr bereit zu Verwendung horizontal Ätzen Linien für Produktion zu erreichen maximal Produktion Auzumatisierung und Reduzieren Produktion Kosten. Allerdings, horizontal Ätzen is nicht perfekt, und die "Pool Effekt" dalss kann nicht be eliminiert macht die Brett schwierig. Die obere Oberfläche und die niedriger Oberfläche produzieren unterschiedlich Ätzen Wirkungen. Die Ätzen Rate at die Kante von die Brett is schneller als die Ätzen Rate at die Mitte von die Brett. Manchmal, dies Phäneinmen kann machen die Ätzen Ergebnisse on die Brett Oberfläche recht unterschiedlich.
Mit underen Worten, der "Pooleffekt" macht die Überkorrosion der Schaltung an der Kante der Platine größer als die in der Mitte der Platine und sogar sorgfältige Schaltungskorrektur (angemessene Erweiterung der Schaltungsbreite an der Kante der Platine), um unterschiedliche Ätzungen auszugleichen. Weil die Ätzzuleranzen sehr fein kontrolliert werden müssen, um ultrafeine Linien zu erhalten.
Diese Situation führt zu erheblichen Veränderungen in der Ätzgeschwindigkeit. Befindet sich die Ätzlösung auf der Leiterplatte in der Nähe der Kante der Platine, ist es wahrscheinlicher, dass sie aus der Platine fließt, und die alten und neuen Ätzlösungen sind einfacher auszutauschen, so dass eine gute Ätzrate beibehalten wird. In der Mitte der Platte ist es einfacher, eine "Pool"-Situation zu bilden, und der Fluss des Ätzes ist daher eingeschränkt. Es ist relativ schwierig für die an Kupferionen reiche Lösung aus der Leiterplatteneinberfläche zu fließen. Dadurch wird die Ätzeffizienz gegenüber der Kante oder Unterseite der Platte reduziert. Der Ätzeffekt wird schlimmer. Tatsächlich ist es unmöglich, den "Pool-Effekt" in der Praxis zu vermeiden, da die kettenartigen horizontalen Übertragungswalzen den Austritt der Ätzflüssigkeit verhindern, war zur Ansammlung der Ätzflüssigkeit zwischen den Walzen führt.
Dies Phänomen tritt auf in die Produktion von größer Platten. Oder ultrafein Linien sind mehr vonfensichtlich, auch wenn mehr Spezial Produktion Prozess Steuerung und Entschädigung Methoden sind verwendet, solche as a Spray System dass kann be angepasst unabhängig voneinunder von die Übertragung Richtung, an oszillierend Spray Rohr und a korrigierend erneutes Ätzen Abschnitt Warten Sie., wenn dort is no riesig technisch Investitionen, dies Problem kann nicht be gelöst gut, so die Ziel von Vermeidung die "Pool Effekt" is erreicht ohne haben zu gehen zurück zu die Start Punkt und Start wieder.
Ende letzten Jahres hat PILL e.K. eine neue Prozesstechnologie herausgebracht, die die Fließfähigkeit der Ätzlösung auf dem oberen Teil der Platte verbessern kann, indem die verwendete Ätzlösung einfach durch eine Wasserpumpe angesaugt wird und so den Pfützeneffekt verhindert wird. Diese Methode wird Vakuumätzen genannt.
Die erste Vakuumätzlinie wurde auf der Productronica im November 2001 der Öffentlichkeit vorgestellt. Gleichzeitig bestätigte der Test des Leiterplattenherstellers, dass der Vakuumätzprozess nur mit weniger Aufwund zur Kontrolle der technischen Bedingungen hervorragende Ergebnisse erzielen kann.
Nach dem Vakuumätzen ist der Ätzeffekt auf der gesamten Oberfläche beider Seiten der Platte sehr gleichmäßig.
Das Prinzip der Vakuumätztechnik ist sehr einfach. Nicht nur Düsen sind im Ätzbereich installeiereniert, sondern auch eine Luftabsaugung ist zwischen den Düsen in einem relativ engen Abstund zur Oberfläche der Leiterplatte installiert. Nachdem diese Pumpeneinheiten die verwendete Ätzlösung abgesaugt haben, kehren sie durch einen geschlossenen Kreislauf in den Flüssigkeitsbehälter des Moduls zurück.
Dabei bezieht sich das Vakuum auf den Unterdruck im Betriebsbereich der Anlage und die geringe Saugleistung gerade so, dass der Ätz keinen Pfützeneffekt erzeugt. Selbst die dünnste Innenschicht kann von der Saugeinheit nicht angesaugt werden und die Fertigungsgenauigkeit muss gewährleistet sein. Durch die Verbindung der Bahn des Saugers mit der oberen festen Rolle im FörderSystem stellt der Konstrukteur sicher, dass der Abstund zwischen dem Pumpenprozess und der Plattenoberfläche der beste Wert ist, unabhängig davon, ob die Produktion dünn oder dick ist. Dies bedeutet, dass unabhängig von der Art der Leiterplatte eine gleichmäßige Ätzlösung Extraktionsrate erreicht werden kann. Auf der gesamten Oberfläche der 24"X24"-Großplatine, auf der Oberseite der Leiterplatte, wurden nur 1-Mikron-Kupferdickenschwankungen festgestellt. Im Vergleich dazu ist der Ätzeffekt des Aufwärtsteils und des Abwärtsteils der Platte grundsätzlich gleich.
Auch die Schaltungsqualität der Fertigungsplatine mittels Vakuumätztechnik ist sehr gut. Detaillierte Tests, die mit verschiedenen Leiterplattenherstellern durchgeführt wurden, haben gezeigt, dass die neue Vakuumätztechnologie geradere Leiterprvonile erzeugen kann, so dass die produzierten Leiterplatten genauer an die Verdrahtungsanfürderungen herankommen können.
Beim Vakuumätzverfahren sind die Schrumpfrate des ÄtzMediums unter dem Resistfilm auf dem Seitenangriff des Drahtes und der Ätzfakzur, der zur Beschreibung der Drahtätztiefe und der Seitenätzmenge verwendet wird, sehr hoch.
Natürlich gibt es auch eine Reihe weiterer Fakzuren, die vom Hersteller grundsätzlich nicht beeinflusst werden, die den tatsächlichen Ätzeffekt beeinflussen. Zum Beispiel haben die Dicke des Resists, die Qualität des Belichtungs- und Entwicklungsprozesses und die Kupferdicke des geätzten Substrats jeweils einen großen Einfluss. Generell wird geschätzt, dass der Ätzprozess oder die Erneuerungsfrequenz der Ätzlösung nur die Hälfte des Ätzeffekts ausmacht. Oliver Briel, der PILL-Projektleiter, bezunte jedoch, dass "die Fakten bewiesen haben, dass wir diese 50% vollständig kontrolliert haben".
Die Vakuumätztechnik zeigt auch in underen Alspekten eine Reihe von Vorteilen:
kann die Kapazität des Ätzprozesses voll ausnutzen. Mit zunehmender Ätzgeschwindigkeit und verkürzter Produktionszeit steigt die Leistung des Ätzprozesses.
Da das erste Ätzen zufriedenstellende Ergebnisse erzielen kann, besteht keine Notwendigkeit, nachzuarbeiten und neu zu ätzen.
kann die zugehörige Fabriksteuerungstechnik reduzieren und die entsprechenden Kosten reduzieren.
Das VakuumätzSystem verwendet relativ einfache Technologie, um ultrafeine Drähte zu produzieren und muss nicht mehr einen schwenkbsindn Strahlrohr installieren.
Die Düsenstruktur mit zeitweise einstellbsindm Sprühdruck kann nicht mehr verwendet werden. Diese Konstruktion wird hauptsächlich verwendet, um sicherzustellen, dass der Pfützeneffekt reduziert wird, war Jetzt einfach durch den Einsatz eines LuftsaugSystems erreicht werden kann.
Die PCB-Vakuumätztechnologie ermöglicht es, das Prozessmodul kürzer und enger zu sein, und die Funktionen des Saugens und Ätzens können gleichzeitig in demselben Modul abgeschlossen werden.
Der zusätzliche Vorteil des Vakuumätztechnik-Systems besteht darin, dass der Einspritzverteiler seitlich entlang der Fahrtrichtung angeordnet werden kann. Herkömmliche Sprühverteiler zur Herstellung von Feindrahtplatten müssen in der Regel längs entlang der Fahrtrichtung angeordnet sein, damit unterschiedliche Sprühdrücke am Rund der Platine und in der Platine bestehen können. Der Winkel zwischen der Düse und der Fahrtrichtung ist angemessen, um die Wartung zu erleichtern und erfürdert weniger Zeit für den Austausch, und diese AnordnungsMethodee kann auch eine einfache elektrische Durchflussüberwachung für jeden Einspritzungskrümmer einzeln durchführen. Wenn es eine unregelmäßige Situation gibt, kann der Benutzer svonort erkennen, welcher Einspritzungskrümmer das Problem hat, und dann kann er es direkt ohne Verzögerung justieren.
PCB Vakuum Ätztechnologie hat zull Potential in die Zukunft, becaVerwendung die Prozess is insbesondere geeignet für die Produktion von dünn Drähte und ultrafein Draht Struktur Bretts. Vorläufig Prüfungen on leitfähig Muster unten 50 Mikron kann get versprochen Ergebnisse. Die Fähigkeit zu Verwendung Vakuum Ätzen Technologie zu produzieren dick Kupfer Schaltungs is sein furdier bewertet, und all aktuell Daten anzeigen dass die Ergebnisse are gut. Es is insbesondere nichteworthy dass nicht nur die traditionell Kupfer Chlorid was verwendet as die Ätzen Medium während die Prüfung, aber auch die Eisen Chlorid ((3)), die is derzeit commnur verwendet in Asien, was auch verwendet as die Ätzen Medium. Obwohl it nimmt a lang Zeit zu Verwendung dies Ätzen medium, die Wirkung is besser wenn die Leiter prvonile is steiler, und it zweifellos bietet an Alternative zu die Prozess dass hat wurden akzeptiert as a stundard, besonders für Spezial Merkmale. Produktion von fein Linien.