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影響曝光成像品質的因素 電路板工廠
（1）光源的選擇
在 PCB工廠, 任何幹膜都有其獨特的光譜吸收曲線, 任何光源都有自己的發射光譜曲線. 如果某一干膜的主光譜吸收峰與某一光源的大部分主光譜發射峰重疊或重疊, 兩者匹配良好，曝光效果最好. 國產幹膜的光譜吸收曲線表明，光譜吸收區為310～440nm. Dy燈, 高壓汞燈, 碘鎵燈在310～440nnl波長範圍內具有較大的相對輻射强度, 哪種是幹膜曝光的理想光源. .
（2）曝光時間的控制
在聚光過程中，幹膜的光聚合反應並不能在光下完成反應，但需要一定的曝光時間
進行充分的響應：
當曝光不足時，由於單體的不完全聚合，薄膜在顯影過程中膨脹變軟，線條不清晰。
顏色暗淡，甚至不新鮮。 在電鍍或電絎縫的預處理過程中，薄膜翹曲、滲透，甚至剝落；
在 電路板廠, 很難開發, 薄膜會變脆, 剩下的膠水. 不正確的曝光將導致影像線寬的偏差, 過度曝光會導致圖案電鍍。線條變薄會使印刷和蝕刻線條變厚. 相反地, 曝光不足會使圖案鍍層的線條變厚, 印刷和蝕刻的線條變得更薄. 為了確定曝光時間, 通常建議使用Riston 17級或Sbuffer 21級光學密度計.
影響曝光和成像品質的因素 電路板工廠
這個 電路板廠 also needs to pay attention to the visual positioning in the exposure positioning:
The visual positioning of the 電路板廠 通常適用於重氮母版. 重氮母版是半透明狀態下的棕色或橙色； 但它對紫外線不透明, 母版的襯墊與母版的孔重疊 印製板 通過重氮影像. 對齊並用膠帶固定，以進行曝光.
缺貨定位系統定位。
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