Fabricación de PCB de precisión, PCB de alta frecuencia, PCB multicapa y montaje de PCB.
Es la fábrica de servicios personalizados más confiable de PCB y PCBA.
Tecnología de PCB

Tecnología de PCB - ¿¿ por qué elegimos bolas de fosfato de cobre en la galvanoplastia de pcb?

Tecnología de PCB

Tecnología de PCB - ¿¿ por qué elegimos bolas de fosfato de cobre en la galvanoplastia de pcb?

¿¿ por qué elegimos bolas de fosfato de cobre en la galvanoplastia de pcb?

2021-10-17
View:1440
Author:Downs

Con el rápido desarrollo de la tecnología electrónica, la demanda de producción de varias placas de circuito ha aumentado considerablemente. El cobre es una materia prima importante para el ánodo de galvanoplastia de pcb, y la demanda ha aumentado considerablemente. Entre ellos, la placa de circuito PCB de precisión requiere bolas de fosfato de cobre como ánodos. Las bolas de fosfato de cobre son adecuadas para placas de circuito electrónico, especialmente placas de circuito multicapa de alta precisión, que son una parte indispensable e importante de los productos electrónicos, y dependen en gran medida del ánodo de bolas de fosfato de cobre de PCB de alta calidad como materia prima básica para la fabricación de placas de circuito. Por lo tanto, la demanda de bolas de ánodo de fosfato de cobre es bastante grande. Este artículo presenta principalmente las bolas de fosfato de cobre de los pcb. En primer lugar, se introdujo por qué las bolas de fosfato de cobre deben usarse para la galvanoplastia de pcb. En segundo lugar, se expone la situación general de la aplicación de bolas de fosfato de cobre en PCB y las previsiones del mercado mundial de bolas de fosfato de cobre. Echemos un vistazo al editor para el seguimiento específico.


¿¿ por qué se utilizan bolas de fosfato de cobre en la galvanoplastia de pcb?

En los primeros días, la galvanoplastia de sulfato de cobre utilizó Cobre electrolítico o cobre anaeróbico como ánodo, y su potencia de bola de cobre de interruptor de ánodo era tan alta como 100% o incluso más del 100%. Esto plantea una serie de problemas: el contenido de cobre en el baño está aumentando y los aditivos también están aumentando. El costo se acelera, el polvo de cobre y el barro anódico en el baño de chapado aumentan, la Potencia anódica se reduce y el recubrimiento es fácil de producir burras de bolas de cobre y defectos ásperos.


La disolución del ánodo de cobre es principalmente la producción de iones de cobre bivalentes. Estudios y demostraciones experimentales (electrodos de disco de anillo giratorio y método de flujo constante): la disolución del cobre en una solución de sulfato de cobre se realiza en dos pasos.

Reacción de elementos de cobre - E - cobre + 1

Reacción de elementos de cobre + - E - cu2 + 2

Galvanoplastia de PCB

La oxidación anódica de iones de cobre bivalentes a iones de cobre bivalentes es una reacción lenta, que también puede producir cobre bivalente y cobre elemental a través de una reacción de desproporción, al igual que la precipitación química del cobre. El elemento de cobre resultante se deposita en el recubrimiento a través de la electrolisis, produciendo polvo de cobre, burras, ásperas, etc. cuando se añade una pequeña cantidad de fósforo al ánodo, se forma una película de fósforo negro en la superficie del ánodo a través de la electrolisis (o ranura de arrastre), y el proceso de disolución del ánodo ha cambiado algo:

1. la película de fósforo Negro tiene un efecto catalítico obvio en la reacción elemental 2, lo que acelera en gran medida la oxidación de los iones de cobre, convierte la reacción lenta en una reacción rápida y reduce en gran medida la acumulación de cobre en el baño de galvanoplastia. Al mismo tiempo, la película fluorescente en la superficie del ánodo también puede bloquear la entrada de iones de cobre en el baño, promover su oxidación y reducir la entrada de iones de cobre. La conductividad eléctrica de la película estándar de fosfato de cobre negro anódico es de 1,5 & times; ¿104 μ - 1cm - 1, con conductividad metálica, no afecta la conductividad eléctrica del ánodo, la polarización anódica del ánodo de cobre del resorte de la pared del ánodo de fosfato de cobre es menor, bajo da at 1asd, el potencial anódico del ánodo de cobre que contiene 0,02% - 0,05% de fósforo es de 50? 80 MV más bajo que el ánodo de cobre sin oxígeno. A la densidad de corriente permitida, la película fluorescente anódica negra no constituye pasivación anódica.

2. la película de fósforo negro en la superficie del ánodo causará una disolución anormal del ánodo, el fenómeno de desprendimiento de partículas finas se reducirá considerablemente y la Potencia de trabajo del ánodo se aumentará considerablemente. ¿¿ cuando la densidad de corriente del ánodo es de 0,4? 1.2asd, el contenido de fósforo en el ánodo es lineal con el espesor de la película negra. Cuando el contenido de fósforo del ánodo es de 0030 a 0075%, la Potencia de uso del ánodo corrosivo es la más alta, y la película de fósforo negro del ánodo es la mejor.


Efecto del contenido de fósforo en la película de fósforo anódica

¿1. ¿ ánodos de cobre con 0030% de fósforo? El 0075% de la película negra tiene un espesor moderado, una estructura fina, una fuerte fuerza de unión y no es fácil de caer; Antes del peligro, el contenido de fósforo del ánodo de cobre era demasiado alto. La distribución del fósforo es desigual y la disolución puede causar barro anódico excesivo, contaminar el líquido de galvanoplastia y bloquear el agujero de la bolsa de ánodo, lo que resulta en un aumento del voltaje de la batería. El aumento del voltaje de la batería puede causar la caída de la película anódica. En la práctica, solo aparecen burras al reemplazar el ánodo durante la galvanoplastia.

2. el ánodo de fosfato de cobre con un contenido de fósforo del 0,3% se distribuye de manera desigual, la película de fósforo negro es demasiado gruesa y la disolución del cobre es pobre. Por lo tanto, generalmente es necesario rellenar el ánodo en lugar de hacer que la relación de área entre el ánodo y el cátodo sea de 1: 1. En la práctica, hay más ánodos de cobre colgados, y el contenido de cobre en el baño sigue disminuyendo, por lo que es difícil mantener el equilibrio. Es necesario agregar sulfato de cobre con frecuencia, lo que no es económico en términos de costos de galvanoplastia. La galvanoplastia tiende a colgar más ánodos de fosfato de cobre defectuosos, y si el barro anódico aumenta, el costo real también aumentará.

3. en la práctica, el espesor de la película negra producida por el ánodo de cobre con alto contenido de fósforo es demasiado grueso, lo que aumenta la resistencia, la corriente original debe mantenerse y el voltaje debe aumentarse. El aumento del voltaje de la batería favorece la descarga de iones de hidrógeno y la incidencia de agujeros de aguja aumenta. Este fenómeno es raro para el sistema nacional "mnsp.p.aeo", ya que hay más tensoactivos, pero para algunos agentes ligeros importados, las oportunidades de agujeros de aguja aumentan considerablemente y se necesitan otros suplementos. Aumentar el Humidificador y minimizar el voltaje.

4. en la práctica, el alto contenido de fósforo, la película negra demasiado gruesa y la distribución desigual también formarán una zona de baja corriente sin brillo y en forma de arena fina.

Aunque el espesor de la película negra del ánodo de fosfato de cobre del 0,3% puede reducir la entrada de iones de cobre en el baño, el efecto se reduce considerablemente debido a su estructura suelta y distribución desigual. Hay reacciones químicas reversibles en otros electrolitos:

Cu2 + CU - 2cu

A temperatura ambiente, la constante de equilibrio de esta respuesta es k = (cu2 +) 2 / (cu2 +) = 0,5x10 - 4.

La temperatura aumenta y la concentración de iones de cobre también aumenta. Los iones de cobre se encuentran en el baño en forma de sulfato de cobre y se oxidan cuando se mezclan con el aire. Cuando la acidez disminuye, el sulfato de cobre hidroliza el óxido de cobre (polvo de cobre), el mismo polvo permanece en la zona de alta corriente del cátodo, la acumulación debe ser cuantitativa y luego aparecen burras; En la zona de baja corriente, la Potencia de la corriente se reduce y los iones de hidrógeno se descargan más. La acidez aquí se reduce y la degradación se lleva a cabo en la dirección de la producción de polvo de cobre.

Cu2so4 + H2O = cu2o + h2so4


Resumen de la aplicación de bolas de fosfato de cobre en PCB

1. las bolas de fosfato de cobre se utilizan en los procesos de cobre primario y secundario de las placas de pcb, formando principalmente una capa de cobre conductor a través del agujero.

La producción de PCB tiene más de dos capas, ya que las líneas entre diferentes capas no están conectadas directamente, las líneas entre diferentes capas deben estar conectadas a través de una estructura de agujero para facilitar la transmisión eléctrica.


Durante el proceso de fabricación de pcb, después de la producción de circuitos de placas interiores, laminaciones multicapa y perforación mecánica, para mantener la perforación en un Estado conductor, es necesario realizar procesos como la eliminación de burras, la depilación y el recubrimiento químico de cobre para generar una fina capa de cobre. Después de eso, el cobre primario y el cobre secundario se realizan a través del cobre electrolítico, y el espesor de la capa de cobre se aumenta para mejorar el efecto de conducción eléctrica del agujero a través. Las bolas de fosfato de cobre son materiales clave para el cobre primario y secundario.


2. la bola de fosfato de cobre es el material anódico del proceso de chapado de cobre de pcb. Añadir fósforo a las bolas de cobre para evitar que el cobre afecte la calidad del recubrimiento.

En teoría, en la reacción de cobre de pcb, el fósforo no participa directamente en la reacción. El objetivo de la adición de fósforo es principalmente ralentizar la tasa de precipitación de los átomos de cobre. Si la tasa de desintegración de los átomos de cobre es demasiado rápida, se producirá una gran cantidad de iones de cobre, que reaccionarán entre sí para formar átomos de cobre e iones de cobre. Los átomos de cobre en la solución se absorberán aleatoriamente en la placa de PCB a través de la ce, lo que afectará la estructura de formación del recubrimiento de cobre y reducirá la calidad del recubrimiento de cobre.


La aplicación de bolas de fosfato de cobre en la galvanoplastia de PCB no solo mejora la calidad de las placas de circuito, sino que también promueve el progreso de la industria electrónica. Con la innovación continua de la tecnología y el crecimiento continuo de la demanda, el mercado de bolas de fosfato de cobre abrirá perspectivas de desarrollo más amplias.