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PCBニュース - プリント回路板スマート製品をよりスマートにする

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PCBニュース - プリント回路板スマート製品をよりスマートにする

プリント回路板スマート製品をよりスマートにする

2019-07-27
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Author:ipcb

スマートフォンが王である時代に、彼らがより薄くてより小さくする方法で、「脳」はより多くの機能を持つのに十分スマートです。これは多くの人々の期待と関連するプロセスの進歩におけるボトルネックです。


現在、この問題は徐々に電子科技大学の教授であるZhang Huaiwuによって克服されている。長年にわたり、張Huaiwuは、スマートフォンを含む電子情報製品のボトルネック問題を克服するために、“印刷エレクトロニクス”プロジェクトに取り組むためにチームを導いた。


現在, アメリカと日本, 中国は、「高密度相互接続ハイブリッド集積回路」と「印刷複合電子材料と集積埋込みデバイス」の中心技術をマスターする世界第三国となった. この過程で, 中国のハイエンド プリント基板 産業はゼロから成長した, 弱者から強い, そして、中国の「知的生産」は、国際市場シェアのかなりの割合を占めることを可能にした.


科学的問題は緊急に解決する必要がある


電子情報のあるところ, がある プリント回路基板. 中国は印刷回路の生産の大きな国である. しかし, 私の国の印刷回路製品のほとんどは知的財産権を有しない, 低い技術的な内容, 簡易処理製品. ハイテク, 高付加価値最先端製品は海外印刷回路メーカーによって独占される.張華武.


最新の電子機器の高集積化,小型化,軽量化,多機能化は,高密度,高信頼性,高熱伝導率,及び反電磁干渉の第4世代の方向にプリント基板を開発する必要がある。スマートフォンを例にとってください。より小さく、より機敏で、より賢くするために、それは体のより洗練された構造を必要とします。張Huaiwuは印刷されたエレクトロニクスがこの問題を解決する鍵であると言いました、そして、それは世界の関連分野で最も最先端技術です。


からの跳躍プリント基板「印刷されたエレクトロニクス」は国際的なマイルストーン科学問題である, そして、第4世代の高密度集積プリント回路関連材料及び熱伝導及び放熱のような技術は、厳しい課題をもたらす.


しかし、このキーテクノロジーは長い間アメリカと日本によって独占されました、そして、中国の関連産業はまた、逆の技術のため、他によって制約されました。

プリント回路基板

外国技術封鎖を破る10年


電子薄膜と集積デバイスの状態キー研究所に基づいて,張Huaiwu社は,第4世代高密度集積プリント回路技術に関する研究に取り組んだ。


高密度相互接続ハイブリッド集積回路技術プロジェクトの確立後, 張Huaiwuは、プロジェクトの全体的な計画と設計の責任があった. 実験に基づいて, 彼はチームに世界初の複合二重性能材料を開発させた, フィルム磁気回路と回路閉包の理論モデルを提案する, インダクタを実現, アンテナ, EMIデバイス, コンデンサ及び磁気コア付き抵抗器. 表面印刷及びめっきは、第4世代の単位面積当たりのライン及びデバイスの密度を増加させる技術的指標を解決する 回路基板.


チームの別のメンバーは何ですか. 彼と彼の同僚は、どんな層の相互接続の技術的なボトルネックを突破しました プリント回路基板, 世界初の微細回路製作のための流体力学理論モデルを確立した, そして世界最高レベルの線幅/米国のIPC協会によって発表される線距離, 印刷回路の高密度配線問題.


この一連の革新的成果は、私の国が高密度相互接続混成集積回路のコア技術を習得し、さらに多くの指標において日本と米国の最高水準を凌駕したことを示している。


「私たちはこの技術に10年間取り組んでいます。」張Huaiwuは、チームが最も基本的な印刷されたエレクトロニクス理論、高い熱伝導性有機材料などから始めて、徐々に部品、回路、熱散逸と熱伝導、電磁干渉と包装システムに深く入りました。待って、一歩一歩、最終的に独立した革新のパスに乗り出した。


国内の工業化を押し上げる


独立した知的財産権を持つ張Huaiwuと他の一連の成果は、印刷エレクトロニクスの工業化のための確固とした基盤を築いてきた。しかし、彼らは、市場との接続を開始する前にすべての条件を満たすことを待っていないが、開発プロセス中に関連企業との戦略的な協力を開始しました。


2002年の早目に,チームはイニシアティブをとり,産業前線を広東に移し,技術の蓄積を「本物のナイフと本物の銃」の生産と組み合わせることで,零点からの学校企業協力を行い,チューハイ牙門,チューハイ遊州省などと順次協力した。このように、中国の「高密度相互接続ハイブリッド集積回路技術」の工業化への前奏を始めてください。


チューハイ創業者との協力はかなり代表的です. 100ミクロン以上の線幅から、今日、25ミクロンの線幅まで, 両技術者は、私の国の目を作るために協力して、最高の技術レベルと最高の器材, 米国と日本企業との完全な互換性は、肩を背負っている. 2011年1月から2013年12月まで, チューハイ創設者は、一連の プリント回路基板 製品の合計出力値.20億元, 良い経済的、社会的利益を生み出した.


「産業大学研究開発プラットホームのすべてのレベルの確立は、持続可能な開発につながります」と、Wei - Weiは産学共同研究協力の経験をチェックした後に感情で言いました。開発する。