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Leiterplattentechnisch

Leiterplattentechnisch - Wie man PCB Trockenfilmbruch/Permeationsprobleme verbessert

Leiterplattentechnisch - Wie man PCB Trockenfilmbruch/Permeationsprobleme verbessert

Wie man PCB Trockenfilmbruch/Permeationsprobleme verbessert

2021-10-19
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Author:Downs

Mit der rasanten Entwicklung der Elektronikindustrie, Leiterplattenverdrahtung wird immer anspruchsvoller. Die meisten Leiterplattenhersteller Verwenden Sie trockene Folie, um die Grafikübertragung abzuschließen, und die Verwendung von Trockenfilm wird immer beliebter. Allerdings, Ich stoße immer noch auf viele Probleme im After-Sales-Service-Prozess. Kunden haben viele Missverständnisse bei der Verwendung von Trockenfilm, die hier als Referenz zusammengefasst sind.

1. Es gibt Löcher in der trockenen Filmmaske

Viele Kunden glauben, dass nach dem Auftreten eines Lochs die Filmtemperatur und der Druck erhöht werden sollten, um seine Haftkraft zu erhöhen. In der Tat ist diese Ansicht falsch, weil das Lösungsmittel der Resistschicht übermäßig verdunstet, nachdem die Temperatur und der Druck zu hoch sind, was zu Trockenheit führt. Der Film wird spröder und dünner, und die Löcher werden während der Entwicklung leicht gebrochen. Wir müssen immer die Zähigkeit des Trockenfilms beibehalten. Daher können wir, nachdem die Löcher erscheinen, Verbesserungen aus den folgenden Punkten vornehmen:

1, reduzieren Sie die Temperatur und den Druck des Films

Leiterplatte

2, um Bohren und Piercing zu verbessern

3, Erhöhung der Expositionsenergie

4, den sich entwickelnden Druck verringern

5, die Parkzeit nach dem Film ist nicht zu lang, um nicht zu verursachen, dass der halbflüssige Film in der Ecke sich unter der Einwirkung des Drucks ausbreitet und dünn wird

6, dehnen Sie den trockenen Film nicht zu fest während des Klebevorgangs

Zweitens tritt die Sickerbeschichtung während der Trockenfilmgalvanik auf

Der Grund für die Permeation ist, dass der trockene Film und die kupferplattierte Platte nicht fest verbunden sind, was dazu führt, dass sich die Plattierungslösung vertieft, wodurch der "negative Phase"-Teil der Beschichtung dicker wird. Die Permeation der meisten Leiterplattenhersteller wird durch folgende Punkte verursacht:

1, die Expositionsenergie ist hoch oder niedrig

Unter UV-Licht-Bestrahlung zersetzt sich der Photoinitiator, der die Lichtenergie absorbiert hat, in freie Radikale, um eine Photopolymerisationsreaktion einzuleiten, um ein körperförmiges Molekül zu bilden, das in einer verdünnten Alkalilösung unlöslich ist. Wenn die Belichtung aufgrund unvollständiger Polymerisation unzureichend ist, schwillt der Film während des Entwicklungsprozesses auf und wird weich, was zu unklaren Linien oder sogar zum Abfallen der Filmschicht führt, was zu einer schlechten Bindung zwischen Film und Kupfer führt; Wenn die Exposition überbelichtet ist, verursacht dies Entwicklungsschwierigkeiten und auch während des Galvanikprozesses. Während des Prozesses traten Warping und Peeling auf und bildeten Penetrationsplattierungen. Daher ist es sehr wichtig, die Belichtungsenergie zu kontrollieren.

2, die Filmtemperatur ist hoch oder niedrig

Wenn die Folientemperatur zu niedrig ist, kann der Resistfilm nicht ausreichend aufgeweicht und ordnungsgemäß geflossen werden, was zu einer schlechten Haftung zwischen dem trockenen Film und der Oberfläche des kupferplattierten Laminats führt; Wenn die Temperatur zu hoch ist, das Lösungsmittel und andere Flüchtigkeit im Resist Die schnelle Verflüchtigung der Substanz erzeugt Blasen, und der trockene Film wird spröde, verursacht Verformung und Schälung während des galvanischen Elektroschocks, was zu Infiltration führt.

3, der Filmdruck ist zu hoch oder niedrig

Wenn der Foliendruck zu niedrig ist, Es kann zu ungleichmäßigen Folienoberflächen oder Lücken zwischen dem Trockenfilm und der Kupferplatte führen und die Anforderungen an die Bindungskraft nicht erfüllen; wenn der Foliendruck zu hoch ist, Das Lösungsmittel und die flüchtigen Bestandteile der Resistschicht verflüchtigen sich zu stark, Ursache der Trockene Leiterplatte Film wird spröde und wird nach galvanischem Elektroschock angehoben und geschält.