1. PCB 재료 분류
금속 재료에 따라 세 가지 유형이 있다.일반적인 PCB 모니터는 소프트 패브릭과 하드 패브릭에 따라 3가지 유형으로 나뉩니다.일반적인 PCB 보드와 전자 플러그인은 높은 핀수, 소형화, SMD 및 복잡한 개발에도 적용됩니다.
전자 플러그인은 회로 기판에 설치되어 핀을 통해 다른 쪽으로 용접됩니다.이 기술을 tht 플러그인 기술이라고 합니다.이러한 방식으로 PCB 보드에서 각 발을 드릴하여 PCB의 일반적인 적용을 설명합니다.SMT 패치 기술이 빠르게 발전함에 따라 다중 레이어 회로 기판 사이에는 전기 도금 후 드릴링을 통해 이를 보장하기 위해 다양한 드릴 장비가 필요합니다.
상술한 요구를 만족시키기 위하여 현재 국내외에서 모두 성능이 각이한 PCB 수치제어드릴설비를 출시하였다.
인쇄회로기판의 생산과정은 복잡한 과정으로서 관련된 공예범위가 아주 넓으며 주로 광화학, 전기화학과 열화학과 관련된다.제조 프로세스에는 더 많은 프로세스 단계가 포함됩니다.경질 다층 회로기판을 예로 들어 가공 과정을 설명하다.드릴링은 가공 시간이 가장 긴 전체 프로세스에서 매우 중요한 프로세스입니다.
구멍의 위치 정밀도와 구멍 벽의 품질은 후속 구멍 금속화 및 보공 작업에 직접적인 영향을 미치며 인쇄 회로 기판의 가공 품질에도 직접적인 영향을 미칩니다.디지털 드릴링 머신 가공 비용의 원리,
회로 기판에 구멍을 뚫는 구조와 기능의 일반적인 방법으로는 디지털 제어 기계 구멍 뚫기 방법과 레이저 구멍 뚫기 방법이 있다.이 단계에서는 대부분의 기계 드릴링 방법이 사용됩니다.고밀도 층압 회로기판의 보급에 따라 맹공에 대한 수요가 증가하고 레이저 드릴 방법의 응용 추세가 강화되었다.
그러나 레이저 드릴링 작업은 가공 재료에 대한 적응성이 떨어지고 설비 원가가 높으며 구멍 벽의 품질이 낮다.이제 기계식 드릴은 PCB 구멍의 거의 90% 를 구현했습니다.PCB 복제 드릴은 효율성을 높이고 비용을 절감하기 위해 여러 축의 평행 캐스케이드 구조를 사용합니다.현재 가장 광범위하게 응용되는 것은 6축 드릴링 머신이다.본체는 용문틀 구조로 기초 부품인 침대, 가로대, x축, y축과 z축 운동 레일 부품, 작업대 부품, 주축 부품과 기타 보조 기능 부품으로 나뉜다.
PCB 드릴링의 주요 동작은 x-y-z 3축 직선 동작과 주 축의 고속 회전 동작입니다.드릴링은 일반적으로 x축과 Y축의 점에 의해 제어되기 때문에 x축과 Y축의 이동과 위치는 일반적으로 고속 위치이고 z축은 직접 작업축이기 때문에 구멍의 크기에 따라 서로 다른 이송 속도를 조정하고 제어해야 한다.이상의 운동과 일부 보조기능의 결합을 통해 PCB판의 부동한 위치에서 부동한 공경의 통공과 맹공을 가공할수 있으며 또 PCB판독드릴의 정밀도와 속도를 확정할수 있다. 례를 들면 주요매개변수이다.
2. PCB 화학도금 소개
메틸황산을 화학도금의 산성체계로 선택하여 주요염류, 각종 첨가제 및 관련 공정조건이 도금층의 두께와 품질에 미치는 영향을 연구하였다.그 결과 AgNO3 농도가 2.5g/L, 메티오닌 품질 점수가 12%, 반응 시간이 5min일 때 균일한 은백색과 밝은 코팅으로 0.16μm의 두께를 얻었다.
이 프로세스는 인쇄회로기판(PCB)에서 용접할 수 있습니다.또한 원자력현미경을 리용하여 코팅표면의 형상을 검측하고 코팅품질에 영향을 주는 일부 요소를 탐구한다.
인쇄회로기판(PCB) 제조의 최종 공정은 표면을 용접 가능하게 처리하는 것이다.은층은 용접성, 내후성, 전도성이 우수하다.대체화학도금을 사용하면 현재 널리 사용되고있는 열풍정평공예중의 결함을 개선하고 첨단과학기술과 환경에 대한 사회의 친선요구를 만족시킬수 있다.
메틸황산체계는 이미 화학도금의 기타 방면에 사용되였지만 화학도금에 관한 보도는 극히 보기 드물다.이는 조제방법의 안정성을 높일수 있으며 산값의 조절과 페수의 처리에 유리하다.
본 실험은 메틸황산을 화학도금의 산성체계로 채택하였다.단일 요인 실험을 통해 이 시스템의 적합한 공정 조건을 연구한 결과 두께가 0.15μm 이상인 은백색 밝은 도금층을 얻을 수 있을 것으로 기대되며, 원자력 현미경, 두께 측정기 등 기기를 사용하여 코팅을 검사한다.
PCB 실버 도금 공정
샘플 화학 탈지 두 번 세척 산세척(미식각) - 증류수 세척 미리 담가 화학 은도금 물세척 드라이.
전기 도금 용액 제조
1) 200mL 10g/L의 AgNO3 용액을 준비하여 갈색 병에 저장하여 준비한다.복제판 메틸황산의 70% 를 30% 로 희석하여 250mL를 조제하여 준비한다.아크릴티오닌, 티오닌, 폴리에틸렌글리콜 600, 폴리에틸렌글리콜 6000, 요소, 구연산암모늄, 구연산, OP유화제, 암모니아수, 에탄올을 포함한 일정 농도의 첨가제를 제조하며, 일부 첨가제는 복제하여 사용할 수 있다.
2) 용량이 100mL인 비커를 취하고 이액관으로 메틸황산, 각종 첨가제와 AgNO3 용액을 흡수하여 은도금 용액을 제조한다.
3) 어떤 첨가제를 시도할 때 즉시 제조하고 대비시험을 통해 코팅표면에 미치는 영향을 관찰하여 도금액에서의 효과를 확정할수 있다.
4) 100mL의 은도금 용액을 배합하여 실온에서 pH에서 1정도로 조절하고 미리 처리한 동편을 그 속에 담그고 반응시간을 통제하며 일반적으로 10-15min로 동편이 은층에 덮여있는가를 목측한다. 속도, 균일도, 밝기, 표면불순물, 덮여면적 등 굉장한 현상을 상세하게 기록해야 한다.