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PCBニュース - PCB回路基板プラント廃水処理

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PCBニュース - PCB回路基板プラント廃水処理

PCB回路基板プラント廃水処理

2021-10-18
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Author:Downs

PCB廃水 is PCB廃水, 印刷産業とサーキットボード工場からの廃水の一種の廃水である. 現在, 世界は毎年300〜400万トンの有毒で有害な化学廃棄物を生産している. その中で, persistent organic pollutants (POPs) are the most harmful to the ecology and the most widespread on the earth. 加えて, PCB廃水 に分けられます:洗浄廃水, インキ廃水, 錯体生成廃水, 濃縮酸廃液, 濃縮アルカリ廃液, etc. The production of printed circuit boards (PCB) consumes a lot of water, そして、多くの種類の廃水汚染物質と複雑な成分があります. 異なるPCBメーカーからの廃水の特性に従って, 合理的な分類収集と品質処理は廃水処理が標準に適合することを保証する鍵である.

pcbボード業界における廃水処理には,化学的方法(化学沈殿,イオン交換,電解など),物理的方法(種々のデカンテーション法,ろ過法,電気透析,逆浸透など)がある。化学的方法は汚染物質を容易に分離できる状態(固体または気体)に変換することである。物理的方法は汚水中の汚染物質を濃縮したり、排水から容易に分離可能な状態を分離することであり、排水基準を満たすことができる。国内外でいくつかの方法がある。

デカンテーション法

デカンテーション法は,実際にはpcbボード工業廃水処理法における物理的方法の一つであるろ過法である。除塵機から排出される銅スクラップを含んでいるフラッシング水は、デカンターによって処理された後に銅スクラップを除去するために濾過されることができます。デカンターで濾過された排水は、バリ機の洗浄水として再利用することができる。

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2化学法

化学的方法は、酸化還元方法と化学沈殿法を含む。酸化還元法は、有害物質を無害な物質や沈殿しやすい沈殿物に変換する酸化剤や還元剤を用いる。回路基板中のシアン化物含有排水及びクロム含有排水は、酸化還元法を採用することが多いので、以下の説明を参照のこと。

化学沈殿法は有害物質を容易に分離した堆積物または沈殿物に変えるために1つまたは複数の化学物質を使用する. 化学薬品は多く使用されています PCBA OEM OEM代替回路基板廃水処理, naohのような, CAO, Ca(OH)2, Na 2 S, CAS, Na 2 CO 3, PFS, パック, PAM, FeSO 4, FECl 3, ISX, etc., 沈殿剤は重金属イオンを沈殿物に変えることができる, それから、傾斜プレート沈澱槽, サンドフィルター, PEフィルタ, フィルタープレス, etc.

化学沈殿イオン交換法

高濃度回路基板廃水の化学的沈殿処理は放電標準を一段階で満たすことが困難であり,イオン交換と併用して使用されることが多い。第1に、高濃度の回路基板廃水を処理して、重金属イオンの含有量を約5 mg/Lに減少させ、次いでイオン交換を使用して重金属イオンを標準化して標準化する。

電解イオン交換法

pcbボード工業における廃水処理法の中で,電解法は高濃度回路基板廃水の処理における重金属イオンの含有量を低減でき,その目的は化学沈殿法と同じである。しかし、電気分解法の欠点は、高濃度重金属イオンの処理に有効であり、濃度が低下し、電流が大幅に減少し、効率が著しく弱くなることである消費電力が大きく、促進が難しい電解方法は単一の金属のみを処理することができる。電解イオン交換法は銅めっき、廃液を他の廃液にエッチングするものであるが、他の方法も用いる。

つの、化学的方法膜ろ過方法

pcbボード工業企業の廃水は化学的に前処理され,有害物質からろ過可能な粒子(直径>0 . 1,1,4,1)を沈殿させ,ろ過基準を満たすようろ過した。

第六にガス状電気濾過法

中で廃水処理方法の間で PCBボード業界, 気相濃縮電気ろ過は1980年代に米国で開発された化学薬品のない新しい廃水処理法である. プリント回路基板廃水処理の物理的方法. 三部からなる. 第1部はイオン化ガス発生器である. 空気は発電機に吸い込まれる, そして、その化学構造は、イオン化した磁界によって変化し、高活性化された磁気酸素イオンと窒素イオンとなる. このガスはジェット装置で処理される. 排水に導入される, 金属イオン, 有機物やその他の有害物質は酸化され凝集する, どのフィルタを削除して簡単です第二部は電解質フィルタである, 第1部で生成された凝塊物を濾過除去する第3部は高速紫外線照射装置である, 水への紫外線は有機化合物と化学錯化剤を酸化する, CoDCRとBOD 5の低減. 現在, ダイレクト・アプリケーションのための完全なセットが開発された.