Metodo di miglioramento del foro durante la sigillatura a secco del film del PWB
Con il rapido sviluppo dell'industria elettronica, il cablaggio PCB è diventato sempre più raffinato. La maggior parte dei produttori di PCB utilizza film secco per completare la gestione grafica e l'uso di film secco è diventato sempre più diffuso. Tuttavia, incontro ancora molti clienti nel processo di servizio post-vendita. Ci sono molti malintesi nell'uso della pellicola secca, che sono riassunti qui per un facile apprendimento. Metodo migliorato di rottura/problema di permeazione del foro nell'applicazione del film secco del PCB
1. La maschera del film secco mostra i fori rotti
Molti clienti credono che dopo l'apparizione di un foro, la temperatura e la pressione del film dovrebbero essere aumentate per aumentare la sua forza di legame. Infatti, questo concetto non è corretto, perché dopo che la temperatura e la pressione sono troppo alte, il solvente dello strato resist evapora eccessivamente e causerà secchezza. Il film diventa fragile e sottile ed è facile sfondare i fori durante lo sviluppo. Abbiamo sempre insistito sulla durata del film secco. Pertanto, dopo la comparsa dei fori, possiamo apportare miglioramenti dai seguenti punti:
1. Diminuire la temperatura e la pressione del film
2. Migliorare la perforazione e il piercing
3. Migliorare l'energia di esposizione
4. Diminuire la pressione di sviluppo
5. Dopo che il film è applicato, il tempo di parcheggio non dovrebbe essere troppo lungo per evitare di causare la pellicola semi-fluida nell'angolo di diffondersi e assottigliarsi sotto l'effetto della pressione.
6. Non allungare troppo il film asciutto durante il processo di ripresa
2. Permeazione durante la galvanizzazione a secco del film
La ragione della permeazione è che il film secco e il pannello rivestito di rame non sono saldamente legati, il che approfondisce la soluzione di placcatura e ispessisce la parte della "fase negativa". La maggior parte della permeazione dei produttori di PCB è composta dai seguenti punti:
1. L'energia di esposizione è alta o bassa
Sotto irradiazione di luce ultravioletta, il fotoiniziatore che ha assorbito l'energia luminosa viene decomposto in radicali liberi per avviare una reazione di fotopolimerizzazione, formando una molecola a forma di corpo insolubile in una soluzione alcalina diluita. Quando l'esposizione è insufficiente, perché la polimerizzazione non è completa, durante il processo di sviluppo, il film si gonfia e diventa morbido, con conseguente linee poco chiare e persino caduta dello strato di pellicola, con conseguente scarso legame tra il film costituente e il rame; se l'esposizione è sovraesposta, causerà difficoltà di sviluppo e galvanizzazione. Warping e peeling si sono verificati durante il processo, che ha costituito infiltrazione placcatura. Quindi è importante controllare bene l'energia di esposizione.
2. La temperatura del film è troppo alta o bassa
Se la temperatura del film è troppo bassa, perché il film resist non può essere sufficientemente ammorbidito e spostato correttamente, con conseguente scarsa adesione tra il film secco e la superficie del laminato rivestito di rame; se la temperatura è troppo alta, è a causa del solvente e di altre proprietà evaporative nel resist La sostanza evapora rapidamente per generare bolle e il film secco diventa fragile, che costituisce deformazione e peeling durante la galvanizzazione scossa elettrica, che costituisce permeazione.
3. La pressione del film è troppo alta o bassa
Quando la pressione del film è troppo bassa, può causare una superficie irregolare del film o spazi vuoti tra il film secco e la piastra di rame e non soddisfare i requisiti della forza di legame; Se la pressione del film è troppo alta, il solvente e i componenti evaporabili dello strato di resistenza evaporano troppo, causando che il film secco diventa fragile e sarà sollevato e pelato dopo elettroshock.
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