Fábric1.. de pl1.c1.S de circuiAs: mejOa de los méAHacers de grabado para crear corAcircuiAs
CorA CircuiA Causa BComot1.te grYe LesI1.s A
Este CorAcircuiA Causa BComotante grYe Lesiones A Este Fábrica de PCB, Rango A partir de... Combustión Componente A GrYe PCB circuIt Tablas ExSí.tencia AbYono. Nosotros Sí, claro. Sólo En el interiortentar A Evitar CorA CircuiA, Nosotros DeSí. Agarrar Cada uno Paso Pertenecer Este Producción, Y do No. Fallido Cada uno Sospechoso Apuntar Durante el Poríodo Inspección. In Este Grabado Proceso, Este AspecAs Ese Normalmente Causa Este Placa de circuiA A CorAcircuito Incluye: Inapropiada Control Pertenecer Este Grabado Solución Parámetros, Y Inhomogéneo Espeso Pertenecer Este Galvanoplastia Capa Cuándo Este Todo board Sí. Galvanoplastia Tener Cobre, Consecuentemente in Impuro Grabado. Este Calidad Pertenecer Este Grabado Yao. Agua Parámetros Control Directamente Influencia Este Calidad Pertenecer Este Placa de circuito to Este Grabado. Este Los siguientes Sí. Este Específico AnálSí.Sí. Pertenecer Este Grabado Solución Pertenecer Este Shenzhen Placa de circuito Factory:
1. PH Valor: Restringido Entre 8....3.. Y 8.8. Si Este PH Valor Sí. Baja, Este Solución Will Ser VSí.coso, Este Color Will Sí. Blanco, Y Este Corrosión Velocidad Will DSí.minución. Esto Situación Sí. Posible to Causa Lado Corrosión, ¿Cuál? Sí. Principalmente Restringido Aprobación Añadir Amoníaco PH Valor.
2... Cloruros Ion: Control Entre 190 ~ 210g/L, Principalmente Aprobación Este Grabado Sal to Control Este Cloruros ion Contenido, Este Grabado Sal Sí. Composición Pertenecer Amonio Cloruros Y Suplemento.
3. Específico Gravedad: Este Específico Gravedad Sí. Principalmente Restringido Aprobación Control Este Contenido Pertenecer Cobre Ion. Normalmente, Este Contenido Pertenecer Cobre Ion Sí. Restringido Entre 14.5.. Y 155.g/L, Y Este Examen Sí. Actuar Cada uno one Horas or so to Garantizar Este Estabilidad Pertenecer Este Específico Gravedad.
4. TemPorEnura: Control at 48 ~ 52 Grado Celsius. Si Este Temperatura Sí. Alto, Este Amoníaco Volatilización Rápidamente, it Will Causa Este PH Valor to Sí. IneEstable, Y Más Pertenecer Este Cilindro Pertenecer Este Grabado Máquina is ... hecho Pertenecer Cloruro de polivinilo Tela, Y Este Cloruro de polivinilo Temperatura Objeción Límite is 55 Grado Celsius, Más allá Esto Temperatura Will Fácilmente Causa Este Cilindro Cuerpo to Deformación Y Incluso si Causa Este Grabado Máquina to Sí. AbYono. Por consiguiente,, an Automático Termostato Debe be Instalación to Eficaz Monitor Este Temperatura to Garantizar Ese it is En el interior Este Control Ámbito de aplicación.
5. Velocidad: Normalmente Ajuste Este Apropiado Velocidad Conforme to Este Espeso Pertenecer Este Bottom Cobre Pertenecer Este Plato.
In Orden to Realización Este Estabilidad Y Equilibrio Pertenecer Este Arriba Parámetros, it is Recomendación to Configuración an Automático Criador to Control Este Química Componente Pertenecer Este Sublíquido Y Hacer Este Composición Pertenecer Este Grabado Líquido in a Bastante stable Estado.
Este Espeso Pertenecer Este Galvanoplastia Capa is Inhomogéneo Cuándo Este Cobre is Galvanoplastia on Este Todo board, ¿Cuál? Guía to Este Mejora Métodos Pertenecer Impuro Grabado.
1. Cuándo Galvanoplastia Este Todo Placa de circuito, Intentar to Comprensión Automático Línea Producción. En Este Idéntico Tiempo, Ajuste Este Presente Densidad per Unidad Región (1.5 ~ 2.0a/dm2) Conforme to Este Tamaño Pertenecer Este Agujero Región, and Mantener Este Galvanoplastia Tiempo as Consistente as Posible. Crecimiento Este Cátodo and ánodo Desconcierto, and Formulación Este Uso Sistema Pertenecer "Galvanoplastia Borde "Banda" to Disminución Este Potencial Diferencia.
2. Si Este Total Galvanoplastia Pertenecer Este Placa de circuito is Manual Línea Producción, Este Grande board Necesidad to be Galvanoplastia Tener Doble Clip, Intentar to Mantener Este Presente Densidad per Unidad Región Consistente, and Instalación a Oportunidad Pánico to Garantizar Este Consistencia Pertenecer Este Galvanoplastia Tiempo and Disminución Este Potencial Diferencia.