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PCB技術

PCB技術 - PCB上の純錫めっきの欠陥

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PCB技術 - PCB上の純錫めっきの欠陥

PCB上の純錫めっきの欠陥

2020-08-27
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Author:ipcb

回路基板の製造工程において、ほとんどの製造業者は依然として、コストの観点からウェットフィルムプロセスのイメージングを使用しているが、これは必然的に「メッキ、ブライトエッジ(TiN薄)」のトラブルを引き起こし、グラフィックが純粋なスズメッキされたときに他の問題になる。この観点から、私は長年にわたって純粋な錫めっきプロセスの一般的な問題の解決策をまとめ、それらとあなたと議論します。これらの中で、回路基板の電気めっきプロセスは、酸性の明るい銅電気メッキ、ニッケル/金電気めっき、錫電気めっきに分けることができる。電気めっきプロセスの技術とプロセス,具体的な操作方法を紹介した。


PCB技術プロセス

酸を浸すことは、全部のプレート・グラフィック伝達酸の酸を浸出させている酸の浸出する酸の逆流を洗っているマイクロエッチカウンターカレントウォッシュ酸8594;グラフィックプラップラプレー銅第二反電流洗浄洗剤金めっき金めっき回収金メッキクラス2‐3純洗浄乾燥

2 .湿式横隔膜の「浸透によるメッキ」の原因解析(非純錫薬の品質問題)

(1)刷り前のブラッシングにより研磨された銅表面は、銅表面と湿式油膜との良好な密着性を確保するためにクリーンでなければならない。

ウェットフィルムの低露出エネルギーは、湿式膜の不完全な光硬化と純粋なスズの電気メッキに対する抵抗性に終わりません。

湿式フィルム前焼成のパラメータは不合理であり、オーブンの局所温度は大きく変化する。感光材料の熱硬化プロセスは温度に敏感であるので、低温は不完全な熱硬化をもたらす可能性があり、それは純粋なスズを電気メッキするためにウェットフィルムの抵抗を減少させる。

ポスト/凝固の失敗は、純粋なスズを電気メッキする抵抗を減らします。

5 .純粋なすずめっきからプレートを完全に、そして、徹底的に洗ってください。同時に、あらゆる板コンパートメントソケットまたは乾いた板を使用しなければなりません。重複は許されません。

ウェットフィルムの品質

生産・貯蔵環境・時間のインパクト貯蔵条件が悪く、貯蔵時間が長くなると、湿式フィルムが膨張し、純錫の電気メッキに対する抵抗が低下する。

湿式フィルムは、錫シリンダー中の純粋な錫発光剤および他の有機汚染物によって溶解される。錫メッキトラフのアノード面積が不足すると、電流効率が低下する。電気めっきプロセス(電気めっき原理:陽極酸素発生,陰極水素発生)中に酸素発生が起こる。電流密度が高すぎると硫酸含有量が高すぎると、カソードからの水素発生は湿潤膜を攻撃し、錫浸出(すなわちメッキ)に至る。

高濃度(水酸化ナトリウム溶液)、脱膜溶液の高温または長い浸漬時間は、錫の流れまたは錫の溶解(すなわち「めっき」)を生じる。

10 .純錫めっきの電流密度が高すぎる。一般に、湿式膜の質量電流密度は1.0〜2.0 A/dm 2であり、電流密度範囲を超える。いくつかのウェットフィルム品質は“浸透メッキ”になりやすい。

PCB

薬液問題による「浸透」の原因と対策

1 .理由:

麻薬用水問題は主に純錫グロス剤の式によって「めっき」につながる。光の侵入は強く、湿式膜に対するメッキ処理中に「メッキ」が生じる。すなわち、過剰な純錫ライト剤を添加したり、電流が若干大きくなると「メッキ」が発生する。通常の電流運転の下で、結果として得られる「めっき」は、過剰な純粋な錫ライト剤、高電流、スズ硫酸塩または硫酸濃度のような医薬水の制御されていない作動条件に関係しており、それはウェットフィルムへの攻撃を促進する。

改善措置

最も純粋な錫の照明器具の性能は、電流の作用下でウェットフィルムに対してより積極的であることを決定する。湿式めっきした純スズ板の「めっき」を避けるために、ウェットフィルムめっき純錫板の通常の製造には3点が推奨される。

1 .純粋な錫の光度計の追加は、少ない数の方法でモニターしなければなりません。メッキ液中の純錫発光体の含有量の下限は通常制御される。

2 .電流密度を許容範囲内で制御する。

3)スズ硫酸塩や硫酸含有量制御などの薬剤組成管理は、「メッキ」の改善に有益であろう。

市販純錫ライト剤の特性

いくつかの純粋な錫照明器具は、電流密度に制限され、狭い動作範囲を有する。この種の純粋な錫照明器具は、通常湿ったフィルム「めっき」を起こしやすいです。硫酸塩,硫酸,電流密度に関する運転条件パラメータ制御の許容範囲は狭い。

いくつかの純粋な錫照明器具は、広範囲の電流密度動作に適している。この種の純粋な錫照明器具は、通常ウェットフィルム「メッキ」を製造するのが簡単でありません。硫酸塩,硫酸及び電流密度に関連した運転条件パラメータ制御の許容範囲は広い。

いくつかの純粋な錫ルミネッセンスは、湿ったフィルムの上で線端の「漏れメッキ、漏出メッキ、黒化」または「輝く」さえ起こりやすいです;

いくつかの純粋な錫ルミネッセンスは、湿ったフィルム(ベーキングプレートまたはUV硬化処置のない)の線縁の「輝く」ことを引き起こしません、しかし、時々「メッキ」問題があります。純錫の湿式膜めっき工程の前には、焼き板や紫外線硬化処理を行わずにラインエッジに「シャイン、メッキ」などの問題はなかった。現在,このような純粋な錫系発光剤は市販されていない。

操作は、異なる医薬水供給者によって提供される純粋な錫ライト剤の特性に従って、動作電流密度、温度、アノード面積、錫硫酸塩、硫酸および錫ライト剤の含有量を厳密に制御するべきである。

湿式絞り板上の純すずめっきに起因する「光沢」ラインエッジの理由

純粋な錫の光度式は一般的に有機溶媒を含んでいるので、湿式油膜自体は有機溶媒のような材料から構成されているが、2つは不適合であり、特にラインの縁の「輝き」に反映される。

線端の「輝き」に関連する因子

(1)純粋な錫発光剤(通常、式中に有機溶剤を含有する)

2 .低電流密度(電流密度が低いほど、線縁が「輝く」)

グリルプレートの条件は一致しない(グリルプレートの主な目的はウェットオイルフィルムから有機溶剤を蒸発させることである)。

(4)塗膜上の湿潤膜の膜厚(膜厚が厚く、光沢がある場合)

ウェットオイルフィルムそのものの品質上の問題(電気メッキされた純錫薬にマッチする湿った油膜を選択);

(6)前処理後の酸性脱臭剤の品質(選択酸性脱臭剤は溶液の洗浄性を高め、脱脂後の銅表面の残留確率を大きく低下させる);

(7)めっき液中の過剰錫グロス剤(過剰錫光沢剤がメッキ液の有機汚染を起こし、湿潤薄膜により錫シリンダーの汚染を防止するため、容量を増加させた後、半月毎に8時間のカーボンコア濾過を行い、5時間、2.5時間、0.5時間の電流密度を5 ASF、10 ASF、15 ASF毎に電解している)

8 .温度は関係している(温度が高く、低電位域の位置が低く、温度が高くなるほど、線縁の「輝き」が容易になる。また、温度が高くなるほど、Sn 2+の酸化が速くなり、添加剤の消費が速くなる)。

悪い導通(悪い伝導度は、電流密度が10 ASF未満のとき、線縁で「輝く」)に直接的に重大な低電流密度をもたらす。

(10)ウェットフィルムシートの保管時間が長い(ウェットフィルムメッキされた純錫シートは比較的良好な環境工房に保管されるべきであり、貯蔵時間は72時間を超えてはならず、生産条件に応じてグラフィック電気メッキプロセスのスタッフはシートを12時間を超えてはならない)。

(11)錫めっきトラフ中の陽極の不足面積(錫めっきトラフ中の陽極の不足面積は電気めっき時の電流効率と酸素発生率を低下させることが必然的である。アノードのカソード面積比は通常2〜3:1であり、錫めっきトラフ中の陽極間の標準間隔は約5 cmであり、アノードの適切な面積を確保するためである。

したがって、いくつかの悪い問題は実際に操作の重要な詳細によって引き起こされます。

湿式フィルムの市場品質の利点と欠点

良いウェットフィルムの品質は、ラインエッジの“輝き”を減らすために有益ですが、それは完全に排除することはできません。また、純スズ板に適した油膜は必ずしも良好ではない。ウェットフィルムの品質特性について簡単に説明する。

1 .良好なウェットフィルムは「めっき」を製造するのが容易ではない。油膜は、電流密度が高いときには分解しやすく、除去が容易ではない。

2)ウェットエッジフィルムはラインエッジの「シャイン」問題を低減する役割を果たすことがあるが、フィルムを除去することは比較的困難である。この種の湿式油膜は、広範囲の電流密度動作を有する医薬品には適していない。わずかに高い電流密度は、「めっき、クランピング、黒化」、さらには、オイル膜を貫通するような問題を引き起こす可能性がある。

すずめっきについて

目的と機能:純粋なtinのグラフィック電気メッキは主にエッチングから線を保護するために金属腐食防止層として純粋なスズを使用する。

(2)流体は主にスズ硫酸,硫酸,添加物からなる。硫酸錫の含有量は35 g/l程度で制御され、硫酸は約10 %で制御される。錫めっき添加剤の添加は、一般的に、1時間当たりの方法、または製造基板の実際の効果によって補足される。TiNめっきの電流計算は、一般的に1である。5 A /正方形のデシメーターは、ボード上の電子プラトーエリアを乗算すずシリンダ温度は室温で維持され、一般的に30度以下であり、主に22度で制御される。したがって、温度が高いため、夏季には錫筒に冷却温度制御系を追加することが推奨される。

(3)プロセスのメンテナンス:1日当たり1時間あたりの錫めっき添加剤の適時補充フィルタポンプが正しく作動しているかどうかを確認し、空気漏れがない。きれいな湿った布で2 - 3時間ごとに陰極導電性ロッドをきれいにしてください。毎週、錫亜硫酸塩(1週間に1回)と硫酸(週1回)を定期的に分析し、ホールスロットテストによって錫めっき添加物の含有量を調整し、適切な原料を適時に補充する溝本体の両端の陽極導電棒とコネクタを1週間毎にきれいにする。週あたりの低電流0を使用してください。2 .0 . 5 asd電解6?8時間;毎月、陽極バッグは損傷のためにチェックされるべきです、そして、損害は時間に取り替えられなければなりません。陽極泥がバッグの底で蓄積されるかどうかチェックして、必要ならばそれをきれいにしてください。炭素カートリッジで連続6毎月のフィルタ?不純物を除去するために低電流で8時間;大きな処理(活性炭粉末)の必要性は半年間の流体の汚染状態によって決定される。フィルターポンプのフィルターカートリッジを2週間ごとに交換します

(4)処理手順:A:アノードを取り外し、陽極袋を取り外し、陽極の表面を銅ブラシで洗浄し、洗浄して乾燥させ、陽極袋に入れて、交換用の酸タンクに入れてください。8時間、洗浄し、水洗し、その後5 %の希硫酸に浸漬し、洗浄し、後の使用のためにすすいでくださいC .スペアスロットに流体を移し、プレス3?5 g/lは活性炭粉末をトラフにゆっくり溶解する。完全に溶けた後、4 - 6時間吸着してください、そして、10μp pフィルタ・カートリッジをプラスしてフィルター粉フィルタトラフ液体はトラフをきれいにするために、陽極に入れて、電解質プレートに掛かって、0を押します。2 - 05 ASD電流密度低電流電解6?実験室分析後の8時間後,硫酸塩と硫酸スズの含有量を正常運転範囲に調整した。ホールグルーブ試験結果により、スズメッキ添加剤を添加する。電解プレートの色が均一であるとき、電気を止めてください。F .試作メッキOK。

(五)硫酸亜鉛又は硫酸等の医薬品を添加する場合に多量の添加があるとき。添加後、低電流電解を行う必要がある硫酸を加える場合には安全性が必要である。硫酸量が多い場合(10リットル以上)は数回ゆっくりと添加する。さもなければ、グルーブ液の過剰温度、酸化スズの酸化を引き起こし、溝液のエージングを促進する。

医薬品添加計算式

硫酸錫(キログラム)= ( 40 - x )*スロット容量( L )/ 1000

硫酸(単位:リットル)=(10 %- x)g / l *スロットボリューム(リットル)

または(リットルの)=(180 - x)G / L *スロットボリューム(L)/ 1840