Notizie PCB - Il disegno del circuito del grafene può diventare una realtà

Questo articolo riguarda principalmente l'introduzione del disegno veloce o diventare una realtà per i circuiti stampati al grafene

I ricercatori dell'Università dell'Illinois, Urbana-Champaign hanno trovato un processo a temperatura ambiente in un singolo passaggio che può rapidamente mappare i circuiti stampati al grafene con una semplice maschera ombra e trasferirli sul substrato flessibile.

Attraverso la deposizione chimica del vapore (CVD), è facile coltivare grafene su fogli di rame, ma gli ingegneri hanno faticato a trovare un modo semplice per incidere il modello di circuito richiesto e trasferirlo su un substrato non metallico. Ora, i ricercatori dell'Università dell'Illinois (Urbana-Champaign) hanno trovato un processo a temperatura ambiente in un singolo passaggio che può rapidamente mappare i circuiti del grafene con una semplice maschera ombra e mapparli. Trasferire su un substrato flessibile.

Per molti anni, gli ingegneri hanno saputo che il grafene è molto facile da depositare e formare su foglio di rame da CVD. Tuttavia, i ricercatori hanno sottolineato che devono ancora spendere un sacco di tempo a coltivare grafene su substrati di silicio prima di poter utilizzare le tecniche tradizionali per mappare i circuiti stampati.

Questo metodo a temperatura ambiente sostituisce il metodo di crescita del grafene sulla lamina di rame e utilizza il suo processo rivendicato in una fase per incidere e trasferire i circuiti del grafene a quasi tutti i tipi di substrati, anche compreso il futuro substrato flessibile di polimerizzazione. Il trucco è tagliare il circuito a uno scudo luminoso più semplice.

"I ricercatori usano per primo software di progettazione assistita dal computer (CAD) per progettare i micro-modelli richiesti, collegare una macchina da taglio laser commerciale a un computer e fare una cappa corrispondente", ha detto Keong Yong, un dottorando presso l'Università dell'Illinois di Urbana-Champaign. €œThese Il ciclo di iterazione rapida di progettazione e la riproduzione del modello sono fabbricati da una taglierina laser veloce e vengono disegnati fogli di polimero e metallo a basso costo. Keong Yong sta attualmente lavorando sul gruppo di ricerca guidato dal professore della scuola €€€€€€€€€€€€€€€€€€€€€€€€€€€€œ Ricerca.

Una volta che il taglio è completo, lo scudo luminoso viene posizionato sul foglio di rame depositato con il grafene CVD e quindi inciso con plasma di ossigeno. Quindi, il grafene modellato viene trapiantato sul substrato PCB flessibile tramite un processo di laminazione per garantire il contatto conforme in modo che la lamina di rame possa essere incisa via.

"Poiché questo approccio è facile da implementare, il nostro metodo non richiede complessi processi tradizionali di micro-produzione e impalcature in polimero, il che riduce notevolmente i passaggi generali di produzione e il tempo." Yong ha detto: "Ancora più importante, usiamo polimero-free Il percorso porta anche grafene più pulito."

Attualmente, quando i wafer di grafene sono fabbricati con questo metodo, non c'è limite di dimensione, ma è ancora limitato dalla precisione di incisione dello scudo luminoso. Per ottenere una lavorazione completa del silicio, questo processo di produzione della maschera ha ancora molta strada da fare. È limitato ai circuiti PCB di livello micron di oggi, non alla gamma di livello nano.

Quanto sopra è principalmente un'introduzione a disegnare rapidamente o diventare una realtà per i circuiti stampati al grafene