L'actualité PCB - Dessin de carte de circuit imprimé de Graphène peut devenir une réalité

Cet article traite principalement du dessin rapide ou de la réalisation de cartes de circuit imprimé en Graphène

Des chercheurs de l'Université de l'Illinois à Urbana - Champaign auraient découvert un procédé à température ambiante en une seule étape qui permet de cartographier rapidement une carte de circuit imprimé en Graphène à l'aide d'un simple masque d'ombre et de la transférer sur un substrat flexible.

Il est facile de faire pousser du graphène sur une feuille de cuivre par dépôt chimique en phase vapeur (CVD), mais les ingénieurs ont travaillé dur pour trouver un moyen facile de graver le motif de circuit souhaité et de le transférer sur un substrat non métallique. Maintenant, des chercheurs de l'Université de l'Illinois (Urbana - Champaign) auraient découvert un processus à température ambiante en une seule étape qui permet de cartographier rapidement les circuits de Graphène avec un simple masque d'ombre et de les cartographier. Transfert sur un substrat flexible.

Les ingénieurs savent depuis de nombreuses années que le Graphène est facilement déposé et formé sur une feuille de cuivre par CVD. Cependant, les chercheurs notent qu'ils ont encore besoin de passer beaucoup de temps à faire pousser du graphène sur un substrat de silicium avant de dessiner des cartes en utilisant des techniques traditionnelles.

Cette méthode à température ambiante remplace la méthode de croissance du graphène sur une feuille de cuivre et utilise son processus en une étape revendiqué pour graver et transférer des circuits de Graphène sur presque tous les types de substrats, y compris les futurs substrats polymérisés flexibles. L'astuce consiste à recadrer le motif du circuit dans un masque plus simple.

« les chercheurs ont d’abord utilisé un logiciel de conception assistée par ordinateur (CAO) pour concevoir les micro - motifs nécessaires, connecter une machine de découpe laser commerciale à un ordinateur et créer le capot correspondant », a déclaré Keong Yong, candidat au doctorat à l’université de l’illinois à Urbana - Champaign. Ces cycles rapides d'itération de conception et de reproduction de motifs sont fabriqués par des machines de découpe laser à fonctionnement rapide et dessinent des polymères et des tôles à faible coût. Keong Yong travaille actuellement dans une équipe de recherche dirigée par le professeur Sung - woo Nam de l'université. Études

Une fois la découpe terminée, le pare - soleil est placé sur une feuille de cuivre déposée avec du graphène CVD, puis gravé avec un plasma d'oxygène. Le Graphène à motifs est ensuite greffé par un procédé de laminage sur un substrat PCB flexible pour assurer un contact conforme permettant de graver la Feuille de cuivre.

« parce que cette méthode est facile à mettre en œuvre, notre méthode ne nécessite pas de processus de microfabrication traditionnels complexes et de supports en polymère, ce qui réduit considérablement l’ensemble des étapes et des temps de fabrication », explique Yong. « de plus, nous utilisons une méthode sans polymère, qui conduit également à un Graphène plus propre. »

Actuellement, lors de la fabrication d'une plaquette de Graphène avec un tel procédé, il n'y a pas de limite dimensionnelle, mais reste limité par la précision de la gravure du pare - soleil. Ce procédé de fabrication de masques a encore un long chemin à parcourir pour réaliser un usinage complet du silicium. Il est limité aux circuits PCB micrométriques d'aujourd'hui, pas à la gamme nanométrique.

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