Data PCB - Aplikasi Substrat Nitrid Aluminum

Apakah substrat nitrid aluminium:

Substrat nitrid aluminium merujuk kepada bahan keramik dengan nitrid aluminium (AIN) sebagai fase kristal utama, dan kemudian dicetak dengan sirkuit logam pada substrat nitrid aluminium, iaitu substrat keramik nitrid aluminium.

Nitrid aluminium adalah bahan keramik dengan konduktiviti panas tinggi, yang biasanya digunakan sebagai bahan semikonduktor disebabkan konduktiviti panas tinggi. konduktiviti panasnya tinggi membuatnya pilihan ideal untuk semikonduktor, dan prestasi isolasi elektrik tinggi membuatnya bahan ideal untuk tubuh yang bersambung. Ia juga digunakan dalam banyak aplikasi lain dan adalah bahan penyebaran panas yang baik.

Keramik nitrid aluminium adalah bahan yang sangat berguna dalam berbagai aplikasi. Ia adalah bahan suhu tinggi dengan konduktiviti yang baik dan konduktiviti panas. Ia juga digunakan untuk elektronik kuasa tinggi dan teknologi pencahayaan LED. Ia juga bahan penyebaran panas yang baik. Ia sangat kekal dan boleh dilaksanakan dalam berbagai medan, dan boleh ditemui dalam hampir mana-mana logam dalam berbagai aplikasi.

substrat nitrid aluminium

Application of aluminum nitride substrate:

1: Nitrid aluminium sebagai bahan substrat

Substrat yang digunakan untuk pakej tidak hanya perlu memenuhi keperluan as as resistiviti tinggi, konduktiviti panas tinggi, dan konstan dielektrik rendah, tetapi juga perlu mempunyai persamaan panas yang baik dengan bahan semikonduktor seperti wafer silikon, mempunyai ciri-ciri seperti bentuk mudah, rata permukaan tinggi, metalisasi mudah, pemprosesan mudah, biaya rendah, Dan sifat mekanik tertentu.

Substrat nitrid aluminium mempunyai siri ciri-ciri yang baik seperti konduktiviti panas yang baik, insulasi elektrik yang boleh dipercayai, konstan dielektrik rendah dan kehilangan dielektrik, tidak-toksik, dan koeficien pengembangan panas yang sepadan dengan silikon. konduktiviti panas boleh mencapai 170W/(m ¢¢¢ k), yang lebih dari 5 kali lipat daripada bahan alumina substrat tradisional. Berbanding dengan bahan keramik gred elektronik lainnya, ia sangat sesuai untuk substrat isolasi peranti kuasa tinggi, substrat penyebaran panas sirkuit terintegrasi skala ultra besar, dan substrat pakej dari prestasi, kos, dan faktor persekitaran.

2: Nitrid Aluminum untuk Substrat LED UV Tepat

Substrat nitrid aluminium boleh mengurangi akumulasi tekanan semasa proses epitaksi, mengurangi cacat wafer epitaksi, dan meningkatkan secara signifikan prestasi dan jangka hidup peranti LED ultraviolet dalam. Selain ciri-ciri umum bahan semikonduktor ruang band lebar seperti ruang band lebar (ruang band 6.2 eV), kekuatan medan elektrik patah tinggi, konduktiviti panas tinggi dan kestabilan kimia tinggi, nitrid aluminium juga mempunyai transminsi cahaya ultraviolet yang baik, Dan merupakan bahan yang ideal untuk menyediakan peranti fotoelektrik ultraviolet (seperti air bersih, penyesuaian, komunikasi, sensor, rawatan perubatan dan fotografi).

3: Nitrid aluminium digunakan secara luas dalam bahan antaramuka panas (TIM)

Gemuk silikon konduktif panas diisi dengan partikel konduktiviti panas tinggi seperti nitrid aluminium (AlN), juga dikenali sebagai pasta konduktif panas, mempunyai cairan tertentu dan adalah bahan penyisipan panas tradisional biasa dengan prestasi panas yang baik dan siklus penghasilan yang lebih pendek; Viskositi rendah, mudah mengisi ruang antaramuka.

4: Nitrid Aluminum sebagai Material Pengepasan Suhu Ultra Tinggi

Titik cair nitrid aluminium (AlN) adalah setinggi 2500, yang boleh digunakan sebagai bahan suhu tinggi dan tahan panas. Koeficient pengembangan panas nitrid aluminium adalah sama dengan koeficient pengembangan panas Si dan SiC. Selepas metalisasi filem tebal, ia boleh memenuhi keperluan suhu sehingga 500" dan ketepatan kuasa 1000W/cm2. Pengepasan aras cip keramik nitrid aluminium boleh dilaksanakan pada peranti mikroelektronik suhu ultrahigh (di atas 500).

5: Aluminum Nitride as a High Power Device Material

Dalam sistem penerima tanpa wayar, sirkuit amplifikasi keadaan-solid bagi modul penerima (modul TR) menggunakan peranti kuasa setengah konduktor bandgap lebar dengan kuasa output yang lebih tinggi. Nitrid aluminium (AlN) dengan konduktiviti panas tinggi boleh memindahkan panas dalaman ke sink panas, menghindari suhu dalaman berlebihan dalam modul. Komponen TR menggunakan keseluruhan konduktiviti panas tinggi dan ciri-ciri kekuatan substrat nitrid aluminium, mengadopsi teknologi pemadam suhu tinggi berbilang lapisan untuk menyelesaikan sambungan menegak isyarat RF dalam kumpulan densiti tinggi struktur tertutup, serta isu seperti penyebaran panas dan penyegelan.

6: Nitrid Aluminum sebagai Material Peranti Frekuensi Tinggi

Nitrid aluminium boleh digunakan sebagai pengumpul, tepuk, dan tetingkap pemindahan tenaga untuk tabung gelombang mikro. Kehilangan dielektrik nitrid aluminium boleh menjadi sebanyak 10 ^ (-4). Apabila panas tetingkap terlalu tinggi, ia boleh memastikan keselamatan peranti elektronik.

7: Nitrid aluminium digunakan sebagai bahan filem tipis

Material filem halus nitrid aluminium mempunyai kestabilan panas yang baik dan ciri-ciri piezoelektrik pada suhu tinggi, dan boleh bekerja dalam persekitaran suhu tinggi dekat dengan 1200, menjadikannya bahan piezoelektrik berkesan tinggi. Film halus nitrid aluminium boleh dilaksanakan dalam modul mikro, sensor, sirkuit terintegrasi, dan komponen aktif.

Aluminum nitride (AlN) substrate have a series of excellent characteristics such as high thermal conductivity, high resistance, low dielectric loss, thermal expansion performance that matches semiconductor materials such as silicon, and good mechanical properties. Keramik elektronik nitrid aluminium telah menjadi arah yang penting untuk menyelesaikan masalah penyebaran panas peranti elektronik yang terintegrasi dan terpencil tinggi, secara efektif memastikan kepercayaan dan keselamatan peranti elektronik.