PCB Haberleri - Grafen devre tablosu çizimi gerçekliği olabilir

Bu makale genellikle hızlı çizim ya da grafin devre tablosu için gerçekliğin girişmesi konusunda.

Illinois Üniversitesi'ndeki araştırmacılar Urbana-Champaign'in bildirildi ki, basit bir gölge maskesi ile grafin devrelerini çabuk haritalayabilir ve onları fleksible aparatlara taşıyabilir.

Kimyasal tüfek depoziti (CVD) ile bakra yağmuru üzerinde grafin büyümesi kolay, fakat mühendisler gerekli devre örneğini etkilemek ve metal olmayan bir substrata aktarmak için basit bir yol bulmak için savaşıyorlar. Şimdi, Illinois Üniversitesi'ndeki araştırmacılar bildiriyor ki, basit bir gölge maskesi ile grafin devrelerini çabuk haritalayabilecek ve onları haritalayabilecek tek adım oda sıcaklığı süreci buldular. Fleksible bir süsleme taşın.

Yıllardır mühendisler, grafin CVD tarafından bakra yağmuruna depolamak ve biçimlenmek çok kolay olduğunu biliyorlar. Ancak araştırmacılar, devre tahtalarını haritalatmak için geleneksel teknikleri kullanmadan önce hâlâ çok zamanını silikon substratlarının büyümesi gerektiğini belirttiler.

Bu oda sıcaklığı yöntemi bakra yağmurdaki grafenin büyümesi yöntemini değiştirir ve önümüzdeki fleksibil polimerizat alttratına dahil olmak için bir adım sürecini kullanır. Numara, devre örneğini daha basit bir ışık kalkanına kesmek.

Araştırmacılar ilk olarak bilgisayar destekli tasarım (CAD) yazılımını kullanır, gerekli mikro modelleri tasarlamak için, bir bilgisayara reklam lazer kesme makinesini bağlayır ve uyumlu bir kaplumbağa yapılır,” dedi. Bu hızlı tasarım tekrarlama döngüsü ve örnek reproducasyonu hızlı çalışan bir lazer kesicisi tarafından üretiliyor ve düşük maliyetli polimer ve metal çarşafları çizdiriliyor. Araştırma.

Keçim tamamlandığında, ışık kalkanı CVD grafini ile yerleştirilmiş bakar yağmasına yerleştirilir ve sonra oksijen plazmasıyla etkilenir. Sonra, patterneli grafin fleksibil PCB substratına bir laminasyon süreci tarafından karşılaştırıldı. Topar yağmuru etkilendirmek için sıra bağlantısını sağlayacak.

"Çünkü bu yaklaşım gerçekleştirmek kolay olduğu için, metodumuz karmaşık geleneksel mikro üretim süreci ve polimer çizgileri gerekmiyor, bu da genel üretim adımlarını ve zamanı büyük azaltır." Yong şöyle dedi: "Daha önemlisi, polimer özgür kullanıyoruz. Yolu da temizleyen grafin getiriyor."

Şu anda, bu metod tarafından grafen waferleri üretildiğinde, boyutlu sınır yok, ama hala ışık kalkanın etkilemesi için sınırlı. Silikon işlemlerini tamamlamak için bu maske üretim süreci hâlâ uzun bir yol var. Bugün mikro seviyeli PCB devrelerine s ınırlı, nano seviyeli menzili değil.

Yukarıdaki en önemli olarak grafin devre tablosu için hızlı çizim veya gerçekliğe dönüştürmek için bir tanıtım.